• Forma : Redondo
• Proceso de dar un título : TUV , YO ASI , CE

• Trademark: szzzyj
• Packing: Vacuum Wooden Box
• Standard: Customized
• Origin: China
• Production Capacity: 100 Tons / Year

 

descripción de producto El 99, 99% de la placa de oro Oro Au Sputtering meta para el recubrimiento de película fina El oro tiene una densidad de 19, 3 g/cm3, casi idéntico al de tungsteno en 19, 25 g/cm3; Como tal, el tungsteno se ha utilizado en la falsificación de barras de oro, como por una barra de tungsteno de chapado en oro, o tomar una barra de oro, la perforación de agujeros, y la sustitución de la retirada de oro con las barras de tungsteno. Por comparación, la densidad de plomo es 11, 34 g/cm3, y que de los elementos más denso, el osmio es 22.588 ± 0, 015 g/cm3.   El nombre del producto El 99, 99% de la placa de oro Oro Au Sputtering meta para el recubrimiento de película fina La pureza El 99, 99% El color El oro y brillante. Pulverice DC El tamaño Tubo/ Placa, personalizar El método de tratamiento Pulvimetalurgia Service El bonding con destino  Indio Materiales de evaporación de titanio de alta pureza 99, 995 gránulos de titanio de pellets   El nombre del elemento Bolitas de TI de alta pureza La pureza El 99, 99%, el 99, 999% Tamaño disponible La personalización está disponible Los certificados ISO9001: 2008, SGS, el tercer informe de ensayo El contenido de impurezas Baja Aplicación Ampliamente utilizado en industrias de procesamiento de revestimiento, semiconductores y  Campo electrónico, recubrimiento de vidrio y decoración. Información detallada Titanio puro y el Titanio de aleación son nuevo estilo de los materiales estructurales, principalmente utilizado para la industria aeroespacial y la industria marina.   El titanio puede fundirse con el hierro, aluminio o molibdeno, vanadio y otros elementos, la creación de aleación ligera de alta resistencia, que se utiliza ampliamente en todos los aspectos, incluyendo la industria aeroespacial ( motores, misiles y las naves espaciales), militar, proceso industrial (químicos y derivados del petróleo, agua de mar la desalinización y papermaking), automóviles, industria agroalimentaria, la medicina (prótesis ortopédicas, trasplante y equipo dental y de relleno), artículos deportivos, joyas, relojes y teléfonos móviles y así sucesivamente.   Estándar de calidad (99, 999% de Ti) El elemento Value(< Ppm) El elemento Valor (< Ppm) El elemento Value(< Ppm) Ag 0.05 Al. 0.11 Como 0.03 Au 0.05 B 0.01 Ba 0.005 Ser 0.005 Bi 0.01 Br 0.05 Ca 0.2 Cd 0.05 Ce 0.005 Hg 0.1 Fe 3.2. Ga 0.05 I 0.01 Ge 0.05 Hf 0.01 En 0.05 Ir 0.01 K 0.01 La 0.005 Li 0.01 Pt 0.05 Mg 0.06 Mn 0.06 Mo 0.5 Na 0.01 N. B. 0.2 Nd 0.005 Ni 0.24 Os 0.01 P 0.01 Pb 0.01 Pd 0.01 Volver 0.01 Der. 0.05 Ru < 0, 01 Sb 0.05 Sc 0.05 Se < 0.05 Sm 0.005 Sn 0.05 W < 0, 01 Ta 5 V 0.02 Te < 0.05 ª 0, 0001 Dy 0.005 Er < 0, 005 F 0.05 Zr 0.05 S 0.02 Si 0.24 Cr 0.06 Co < 0, 01 Zn 0.05 Cu 0.28 Cl 0.23 Cs 0.01

  Los objetivos de sputtering estamos fabricando muestran un rendimiento excepcional en virtud de alta densidad, excelente la pureza, y distinguidos de la microestructura homogénea. Nuestros objetivos de sputtering consisten principalmente en metales puros y aleaciones, disponible tanto en plana y formas giratorio Los objetivos de Rhexon destacados: 1. Metal Puro: Ti, en el ZR, Ta, Nb, Mo, W, Ni, Cr, Al, Zn, IS, Cu, ITO, AZO. TZO, ASEO, Nb2O5, TiO2, SiO2 con        Tipo giratorio y planar, 2. aleación típico  objetivo  : 1) de Ti/al  objetivo de aleación  (67: 33, 50: 50en %) 2) W/    destino de aleación de Ti  (90: 10wt%), 3) Ni/V de la    meta  (aleación de 93: 7, wt%) 4) Ni/Cr de    destino    (aleación de 80: 20, 70: 30, wt%), 5)/rc de      destino  (aleación de 70: 30, 50: 50en %) 6) Nb/Zr      objetivo  (aleación de 97: 3, 90: 10wt% 7) Si/al    objetivo de aleación  (90: 10, 95: 5, 98: 2, 70: 30, wt%) 8) Zn/  aleación al. 9)Cr puro  objetivo  (99, 95%, el 99, 995%) 10)/rc de    destino (aleación de 70: 30, 50: 50, 15: 85, 67: 33, wt%y en %) 11) ni de aleación de cobre y el  destino  (70: 30, 80: 20, wt%) 12)Al/Nd    objetivo  (aleación de 98: 2wt%) 13)Mo/Nb de  destino  (aleación de 90: 10, wt%) 14)TiAlSi  Objetivo (aleación de Ti/Al/IE=30/60/10, 33/67, 40/50/10, wt% y en %) 15)  Aleación CrAlSi objetivo  (Cr/Al/IE=30/60/10, wt% y en%)y así sucesivamente, y ayudar a conjunto de material objetivo  

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